1、概述
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水，纯水主要用作清洗用水 以及用来配制各种溶液、浆料。
纯水水质已经成为影响电子元器件产品质量、生产成品率以及生产成本的重要因素之一，水质的要求也越来越高。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ·cm、15 MΩ·cm、10 MΩ·cm、2 MΩ·cm、0.5 MΩ·cm，以区分不同水质。
2、电子工业用超纯水的制备工艺流程
电子工业用超纯水设备采用制备的工艺流程有下列几种：
（1）原水－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－精密过滤器－阳床－阴床－混合床－纯水箱－纯水泵－后置精密过滤器－用水点
（2）原水－多介质过滤器－活性炭过滤器――软水器－原水箱－一级反渗透－中间水箱－二级反渗透－纯化水箱－纯水泵－紫外线器－后置精密过滤器－用水点
（3）原水－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－原水箱－反渗透设备－中间水箱－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线器－后置精密过滤器－用水点
（4）原水－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－原水箱－反渗透设备－中间水箱－EDI装置－纯水箱－纯水泵－精制混床－精密过滤器－用水点