北京晶迈中科材料技术有限公司

碳化铪靶材HfC靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

价格:面议 2021-11-10 03:21:01 432次浏览

产品介绍

碳化铪通常用二氧化铪(HfO2)与碳在惰性或还原性气氛中合成粉末,反应温度1900~2300℃碳化铪能与许多化合物(如ZrC、TaC等)形成固溶体。

产品参数

中文名 碳化铪 分子式 HfC

分子量 194.5325 密度12.7g/cm3

熔点3890℃

陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

产品优势 靶材纯度高,致密度高,成分均匀 厂家直销

产品规格 图片靶材,矩形靶材,圆柱靶材,台阶片靶材,管型靶材,根据客户的图纸定制

产品用途 磁控溅射镀膜材料等

产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单

适用仪器 各类型号磁控溅射设备

服务项目 靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧

加工流程 熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

厂家优势

厂家直销

收货后7日内可协商退换货

靶材种类齐全

支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

本网站价格只做参考,期待您的垂询!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

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