电子级四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。在低温制冷、电子器件表面清洗和气相绝缘等方面被广泛应用。我院具备年产200吨CF4的生产能力，生产工艺及设备均处于国内领 先地位，且以生产5N规格的产品为主。稳定销往韩国、台湾等地区。产品特性：四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。黎明院是国内研究开发六氟化硫生产工艺的单位，致力于含氟电子特气的研究，取得数十项技术研究及革新成果，曾获全国科学大会奖，并主编工业级、电子级六氟化硫国家标准。黎明院在制氟及氟化物生产行业的综合技术实力达到了国内领 先水平，产品质量达到国际先进水平。在电解制氟、合成、提纯、“三废”处理等工艺技术领域具有四十多年的科研和生产经验，拥有多项核心技术，累计申报国家专利17项。工业六氟化硫产品已经连续多年获得“河南省名 牌产品”称号。近年来，黎明院电子级六氟化硫、三氟化氮、四氟化碳、六氟化钨等含氟特种气体的研发也取得了丰硕成果，其中自主研发的处于国际先进水平的新型电解技术可实现直接一步反应生产三氟化氮，其产品指标达到国际先进水平。超高纯六氟化硫、四氟化碳的研发列入国家重大专项课题“02专项”， 重点开发满足半导体集成电路领域使用的更高纯度含氟电子气体。
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