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产品概述:
1200℃迷你型真空气氛管式炉采用双层壳体结构,炉膛材料采用高纯氧化铝,壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃,内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围:
1200℃迷你型真空气氛管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,应用于高、中、低温CVD工艺,如碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜,金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。